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| 產(chǎn)品中心：其他硬度測(cè)試儀器 → VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀 |
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1、引言 VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是最新研制開(kāi)發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類(lèi)設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備。 配置兩個(gè)靶槍?zhuān)粋�(gè)為配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，一個(gè)為配套直流電源用于導(dǎo)電類(lèi)材料的濺射鍍膜;可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛;體積小，操作簡(jiǎn)便。 2、主要技術(shù)指標(biāo) 電源：220V 50Hz 最大功率：<560W（不含真空泵） 極限真空度：< E-6mbar（配合本公司設(shè)備使用可達(dá)到E-5mbar） 工作溫度：RT-500℃，精度±1℃（可根據(jù)實(shí)際需要提升溫度） 靶槍數(shù)量：2個(gè)（可選配其他數(shù)量） 靶槍冷卻方式：水冷 靶材尺寸：Ø2″，厚度0.1-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同） 直流濺射功率：500W（可選） 射頻濺射功率：300W/500W（可選） 載樣臺(tái)：Ø140mm 載樣臺(tái)轉(zhuǎn)速：1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào) 保護(hù)氣體：Ar、N2等惰性氣體 進(jìn)氣氣路：質(zhì)量流量計(jì)控制2路進(jìn)氣，每個(gè)流量為100SCCM 尺寸：500mm×560mm×660mm 整機(jī)尺寸：1300mm×660mm×1200mm 重量：160kg |
